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美(měi)國(guó)MicroChem光(guāng)刻膠有(yǒu)哪些地(dì)方适用
2020-11-21 15:58:29    閱讀:1990

MicroChem光(guāng)刻膠也稱為(wèi)光(guāng)緻抗蝕劑,是一種光(guāng)敏材料,它受到光(guāng)照(zhào)後特性會發生(shēng)改變。光(guāng)刻膠主要用來(lái)将光(guāng)刻掩膜版上(shàng)的(de)圖形轉移到晶圓片上(shàng)。

  

  光(guāng)刻膠有(yǒu)正膠和(hé)負膠之分。正膠經過曝光(guāng)後,受到光(guāng)照(zhào)的(de)部分變得容易溶解,經過顯影後被溶解,隻留下(xià)未受光(guāng)照(zhào)的(de)部分形成圖形;而負膠卻恰恰相(xiàng)反,經過曝光(guāng)後,受到光(guāng)照(zhào)的(de)部分會變得不易溶解,經過顯影後,留下(xià)光(guāng)照(zhào)部分形成圖形。

  

  負膠在光(guāng)刻工(gōng)藝上(shàng)應用早,其工(gōng)藝成本低(dī)、産量高(gāo),但(dàn)由于它吸收顯影液後會膨脹,導緻其分辨率(即光(guāng)刻工(gōng)藝中所能形成小(xiǎo)圖形)不如正膠,因此對(duì)于亞微(wēi)米甚至更小(xiǎo)尺寸的(de)加工(gōng)技(jì)術,主要使用正膠作(zuò)為(wèi)光(guāng)刻

  

  MicroChem光(guāng)刻膠使用注意事(shì)項:

  

  ①若腐蝕液為(wèi)堿性,則不宜用正性光(guāng)刻膠

  

  ②看(kàn)光(guāng)刻機(jī)型式,若是投影方式,用常規負膠時(shí)氮氣環境可能會有(yǒu)些問(wèn)題

  

  ③負性膠價格成本低(dī),正性膠較貴

  

  ④工(gōng)藝方面:負性膠能很(hěn)好(hǎo)地(dì)獲得單根線,而正性膠可獲得孤立的(de)洞和(hé)槽

  

  ⑤健康方面:負性膠為(wèi)有(yǒu)機(jī)溶液處理(lǐ),不利于環境;正性膠屬于水(shuǐ)溶液,對(duì)健康、環境無害


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